Industrielt SiC vertikalt ovnrør med høj varmeledningsevne og korrosionsbestandighed

Kort beskrivelse:

Vores siliciumcarbid (SiC) rør, der er konstrueret som det ydre procesrør i vertikale ovne, leverer en tæt kontrolleret atmosfære og et meget ensartet temperaturfelt. Det er bygget til at modstå langvarig eksponering for ~1200 ℃ og komplekse procesgasser, hvilket kræver ultrahøj renhed, stærk termisk ydeevne og klippefast strukturel integritet.

Send e-mail til os

Funktioner

Detaljeret diagram

Vertikalt ovnrør af siliciumcarbid — Produktoversigt

Kvartsglasplader, også kendt som smeltet silicaplader eller kvartsplader, er højt specialiserede materialer fremstillet af siliciumdioxid (SiO₂) med høj renhed. Disse transparente og holdbare plader er værdsat for deres exceptionelle optiske klarhed, termiske modstand og kemiske stabilitet. På grund af deres overlegne egenskaber anvendes kvartsglasplader i vid udstrækning i flere industrier, herunder halvledere, optik, fotonik, solenergi, metallurgi og avancerede laboratorieapplikationer.

Vores kvartsglasplader er fremstillet af råmaterialer af højeste kvalitet, såsom naturlige krystaller eller syntetisk silica, som er forarbejdet gennem præcisionssmelte- og poleringsteknikker. Resultatet er en ultraflad overflade med lavt indhold af urenheder og uden bobler, der opfylder de strengeste krav i moderne industrielle processer.

Nøglefunktioner

3D-printet struktur i ét stykke
Eliminerer sømme og stresskoncentratorer for at maksimere mekanisk styrke og pålidelighed.

Ultralave urenheder
Basismateriale300 ppmCVD-belagt overflade5 ppm—minimering af kontaminering for ultra-ren forarbejdning.

Høj varmeledningsevne
Hurtig, jævn varmeoverførsel muliggør præcis temperaturkontrol og tæt ensartethed på tværs af waferen.

Fremragende tolerance over for termisk stød
Klarer hyppige varme/kolde cyklusser uden at revne – forlænger levetiden og reducerer vedligeholdelse.

Overlegen korrosionsbestandighed
CVD SiC-overfladen beskytter mod aggressive kemikalier og forskellige atmosfærer for langvarig stabilitet.

Applikationer

Halvleder:Oxidation, diffusion, udglødning – ethvert trin, der kræver streng temperaturensartethed og renlighed.
Fotovoltaik:Waferteksturering, diffusion, passivering med stabile, repeterbare resultater.
Avancerede materialer og varmebehandling:Ensartede højtemperaturmiljøer til forskning og udvikling samt produktionsudstyr.

Ofte stillede spørgsmål

Q1: Primære anvendelser?
A:Halvleder-, solcelle- og avancerede materialeprocesser – f.eks. diffusion, oxidation, udglødning og passivering – hvor atmosfære- og temperaturensartethed driver udbyttet.

Q2: Maksimal driftstemperatur?
A:Bedømt til≤ 1300 ℃; typisk kontinuerlig drift er omkring1200 ℃med fremragende strukturel stabilitet.

Q3: Hvordan er det sammenlignet med kvarts- eller aluminiumoxidrør?
A:SiC giver højere temperaturkapacitet, meget bedre termisk ledningsevne, overlegen termisk stødmodstand, længere levetid og markant lavere urenhedsniveauer – ideelt til moderne halvleder- og PV-krav.

Om os

XKH specialiserer sig i højteknologisk udvikling, produktion og salg af specielt optisk glas og nye krystalmaterialer. Vores produkter anvendes til optisk elektronik, forbrugerelektronik og militæret. Vi tilbyder optiske safirkomponenter, mobiltelefonlinsedæksler, keramik, LT, siliciumcarbid SIC, kvarts og halvlederkrystalwafere. Med dygtig ekspertise og avanceret udstyr udmærker vi os inden for ikke-standard produktforarbejdning og sigter mod at være en førende højteknologisk virksomhed inden for optoelektroniske materialer.