English

Aluminiumsubstrat Enkeltkrystal aluminiumsubstratorientering 111 100 111 5×5×0,5 mm

Aluminiumsubstrat Enkeltkrystal aluminiumsubstratorientering 111 100 111 5×5×0,5 mm Fremhævet billede
  • Aluminiumsubstrat Enkeltkrystal aluminiumsubstratorientering 111 100 111 5×5×0,5 mm
  • Aluminiumsubstrat Enkeltkrystal aluminiumsubstratorientering 111 100 111 5×5×0,5 mm
  • Aluminiumsubstrat Enkeltkrystal aluminiumsubstratorientering 111 100 111 5×5×0,5 mm

Kort beskrivelse:

Efterspørgslen efter højrente enkeltkrystal-aluminiumsubstrater (99,99%) stiger inden for teknologiske sektorer som halvlederfremstilling og højeffektive lyskilder. Denne artikel undersøger forskellige dimensioner af disse substrater: 5×5×0,5 mm, 10×10×1 mm og 20×20×1 mm, med fokus på deres krystallografiske orienteringer, nemlig (100) og (111). Det er værd at bemærke, at (111)-orienteringen har en gitterkonstant på 4,040 Å, hvilket har en betydelig indflydelse på materialets mekaniske og elektriske egenskaber. Det exceptionelle renhedsniveau minimerer forekomsten af ​​defekter og forbedrer dermed substratets ydeevne i elektroniske applikationer. Orienteringen af ​​aluminiumkrystallerne spiller en afgørende rolle i bestemmelsen af ​​overflademorfologien og den samlede adfærd i enhedsintegration.


Funktioner

Specifikation

Følgende er karakteristikaene for aluminiums enkeltkrystalsubstrat:

Høj materiales renhed: Renheden af ​​aluminiummetal-enkeltkrystalsubstrat kan nå mere end 99,99%, og urenhedsindholdet er meget lavt, hvilket kan opfylde de strenge krav til halvledere til materialer med høj renhed.
Perfekt krystallisation: Aluminium-enkeltkrystalsubstrat dyrkes ved hjælp af trækningsmetoden, har en meget ordnet enkeltkrystalstruktur, regelmæssig atomarrangement og færre defekter. Dette er befordrende for efterfølgende præcisionsbearbejdning på substratet.

Høj overfladefinish: Overfladen på aluminiums-enkeltkrystalsubstratet er præcist poleret, og ruheden kan nå nanometerniveauet, hvilket opfylder renhedsstandarderne for halvlederfremstilling.
God elektrisk ledningsevne: Som metalmateriale har aluminium god elektrisk ledningsevne, hvilket er befordrende for højhastighedstransmission af kredsløb på substratet.
Aluminium enkeltkrystalsubstrat har flere anvendelser.
1. Fremstilling af integrerede kredsløb: Aluminiumsubstrat er et af de vigtigste substrater til fremstilling af integrerede kredsløbschips. Komplekse kredsløbslayouts kan fremstilles på wafere til produktion af CPU, GPU, hukommelse og andre integrerede kredsløbsprodukter.
2. Effektelektroniske enheder: Aluminiumsubstrat er egnet til fremstilling af MOSFET'er, effektforstærkere, LED'er og andre effektelektroniske enheder. Dens gode varmeledningsevne er befordrende for enhedens varmeafledning.
3. Solceller: Aluminiumsubstrater anvendes i vid udstrækning i fremstillingen af ​​solceller som elektrodematerialer eller forbindelsessubstrater. Aluminium har god elektrisk ledningsevne og lave omkostninger.
4. Mikroelektromekaniske systemer (MEMS): Aluminiumsubstrat kan bruges til at fremstille forskellige MEMS-sensorer og udførelsesenheder, såsom tryksensorer, accelerometre, mikrospejle osv.
Vores fabrik har avanceret produktionsudstyr og et teknisk team, som kan tilpasse forskellige specifikationer, tykkelser og former af aluminiums-enkeltkrystalsubstrat i henhold til kundernes specifikke krav.

Detaljeret diagram

a1
a2
  • Tidligere:
  • Næste:

    • Relaterede produkter

    Skriv din besked her og send den til os
    Tryk Enter for at søge eller ESC for at lukke