Dia300x1.0mmt Tykkelse Safir Wafer C-Plane SSP/DSP

Dia300x1.0mmt Tykkelse Sapphire Wafer C-Plane SSP/DSP Udvalgt billede

Kort beskrivelse:

Shanghai Xinkehui New Material Co., Ltd. kan producere safirskiver med forskellige overfladeorienteringer (c, r, a og m-plan) og kontrollere afskæringsvinklen til inden for 0,1 grad.Ved at bruge vores proprietære teknologi er vi i stand til at opnå den høje kvalitet, der er nødvendig til sådanne applikationer som epitaksial vækst og wafer bonding.

Send e-mail til os

Produktdetaljer

Produkt Tags

Introduktion af wafer box

Krystal materialer	99,999% af Al2O3, Høj renhed, Monokrystallinsk, Al2O3
Krystal kvalitet	Indeslutninger, blokmærker, tvillinger, farve, mikrobobler og spredningscentre er ikke-eksisterende
Diameter	2 tommer	3 tommer	4 tommer	6 tommer ~ 12 tommer
Diameter	50,8±0,1 mm	76,2±0,2 mm	100±0,3 mm	I overensstemmelse med bestemmelserne i standard produktion
Tykkelse	430±15 µm	550±15 µm	650±20 µm	Kan tilpasses af kunde
Orientering	C-plan (0001) til M-plan (1-100) eller A-plan (1 1-2 0) 0,2±0,1° /0,3±0,1°, R-plan (1-1 0 2), A-plan (1 1-2 0 ), M-plan (1-1 0 0), Enhver Orientering, Enhver vinkel
Primær flad længde	16,0±1 mm	22,0±1,0 mm	32,5±1,5 mm	I overensstemmelse med bestemmelserne i standard produktion
Primær flad orientering	A-plan (1 1-2 0 ) ± 0,2°
TTV	≤10 µm	≤15 µm	≤20 µm	≤30 µm
LTV	≤10 µm	≤15 µm	≤20 µm	≤30 µm
TIR	≤10 µm	≤15 µm	≤20 µm	≤30 µm
SLØJFE	≤10 µm	≤15 µm	≤20 µm	≤30 µm
Warp	≤10 µm	≤15 µm	≤20 µm	≤30 µm
Forside	Epi-poleret (Ra< 0,2nm)

*Bow: Afvigelsen af midtpunktet af medianoverfladen af en fri, ikke-afspændt wafer fra referenceplanet, hvor referenceplanet er defineret af de tre hjørner af en ligesidet trekant.

*Warp: Forskellen mellem den maksimale og minimale afstand af medianoverfladen af en fri, ikke-klemt wafer fra referenceplanet defineret ovenfor.

Produkter og tjenester af høj kvalitet til næste generation af halvlederenheder og epitaksial vækst:

Høj grad af fladhed (kontrolleret TTV, bue, kæde osv.)

Rengøring af høj kvalitet (lav partikelkontamination, lav metalkontamination)

Underlagsboring, riller, skæring og polering af bagsiden

Vedhæftning af data såsom renhed og form af underlag (valgfrit)

Hvis du har behov for safirunderlag, er du velkommen til at kontakte:

post:eric@xkh-semitech.com+86 158 0194 2596 /doris@xkh-semitech.com+86 187 0175 6522

Vi vender tilbage til dig hurtigst muligt!